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真空磁控濺射鍍膜

真空磁控濺射鍍膜

真空磁控濺射鍍膜，基本原理是在真空條件下，利用氣體放電產(chǎn)生的高能等離子體在電磁場環(huán)境下轟擊靶材，靶材原子經(jīng)過物理或化學(xué)反應(yīng)，在產(chǎn)品表面沉積一層金屬或金屬化合物的納米薄膜，該膜層具有厚度均勻性好，附著力高，耐候性強(qiáng)等特點(diǎn)。

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真空磁控濺射鍍膜，基本原理是在真空條件下，利用氣體放電產(chǎn)生的高能等離子體在電磁場環(huán)境下轟擊靶材，靶材原子經(jīng)過物理或化學(xué)反應(yīng)，在產(chǎn)品表面沉積一層金屬或金屬化合物的納米薄膜，該膜層具有厚度均勻性好，附著力高，耐候性強(qiáng)等特點(diǎn)。